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Aprile 2011  » 

Nanotecnologie innovative nel fotovoltaico

Il Pulsed Plasma Deposition

Pare abbia avuto un enorme successo all’Innovation Day, svoltosi pochi giorni fa nella Silicon Valley, la capitale mondiale delle nuove tecnologie. Si tratta dello start-up nato a Colle Val d’Elsa (Si) per la ricerca nel campo del fotovoltaico, il Siena Solar Nanotech, diretto da Gianpiero Tedeschi. All’Innovation Day, organizzato dall’associazione no-profit Mind the Bridge, da Booz&co e da Intesa Sanpaolo, e dedicato alle eccellenze nel campo dell’innovazione “Made in Italy” la Siena Solar pare abbia presentato la sua nuova tecnica di produzione di pannelli solari, capace di ridurre i costi, massimizzando la qualità. È stata chiamata PPD, Pulsed Plasma Deposition, e non è altro che l’uso di impulsi ultracorti di elettroni per la deposizione di film sottili fotovoltaici.

Pare sia una tecnica innovativa, che mette a disposizione dell’industria del fotovoltaico a film sottile la competitività, un’ottima uniformità ed è in grado di depositare dei film su qualsiasi materiale.


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